真空等离子清洗机氧氢氮气体作用

真空等离子清洗机适用于印制线路板行业，半导体IC领域、硅胶、塑胶、聚合体领域，汽车电子行业，航空工业等。印制线路板行业：高频板表面活化，多层板表面清洁、去钻污,软板、软硬结合板表面清洁、去钻污，软板补强前活化。半导体IC领域：COB、COG、COF、ACF工艺，用于打线、焊接前的清洗；硅胶、塑胶、聚合体领域硅胶、塑胶、聚合体的等离子表面粗化、刻蚀、活化。

1、氧气

氧是一种常见的等离子清洗活性气体，这是属于物理学+化学处理方法，被电离后离子化造成的离子能够对表面进行物理学轰击，产生不光滑粗糙的表面。此外，高活性氧离子能与被断键的分子结构链产生化学反应，转化成具备活性基的亲水性表层，以完成表层活性的目的；而被断键的有机污染物则能与活性氧离子产生化学反应，产生CO、CO2、H2O等分子脱离表层，完成表层清洗。氧关键用以高分子聚合物的表层活性和污染物的除去，但不可以用以于易氧化的金属表层。在真空等离子下，氧等离子呈浅蓝色，一部分充放电时呈乳白色；放电环境中光线较亮，用肉眼观看时很有可能出现看不见真内腔内放电的状况。

2、氢气

氢与氧类似，是高活性气体，能活化和清洗表层。氢和氧的差别关键取决于反应后产生的官能团不一样，另外氢还具备还原性，可用于金属表层的微观氧化层除去，并且不易毁坏表层比较敏感的有机层。因而在微电子技术，半导体材料和pcb线路板加工制造业中运用较为普遍。因为氢是危险气体，在没有电离的状况下易与氧气融合会产生爆炸，因而在等离子清洗机中不允许这二种气体混合使用。在真空等离子状态中，氢等离子体为鲜红色，与氩等离子体类似，要同样放电环境下比氩等离子体颜色稍深。

3、氮气

由氮气电离而成的等离子体与一些分子产生键合反应，因而也是一种有活性气体，可是相对于氧和氢而言，它的颗粒较重，在一般的等离子清洗机的运用中，这类气体一般被界定在活性气体氧、氢气和稀有气体氩气之间的一种气体。清洗活化时要做到一定的轰击、蚀刻的效果，同时能避免一部分金属表层产生空气氧化。由氮气和其他气体混和而成的等离子体，一般用来处理一些特殊的材料。在真空腔体内，相同放电的情况下氮等离子会比氩、氢等离子亮度更亮一些。